こんにちワン！科犬です。
本日は大日本科研が最も得意にしている「マスクレス露光装置」を徹底解剖。
「マスクレス露光装置」を一言で言うと、
フォトマスクを使わずに基板やウェハへ直接パターンを描画できる露光装置のこと！！
半導体やプリント基板、FPD（フラットパネルディスプレイ － テレビや PC、スマホの表示画面）などの製造工程で用いられる技術です。
【メリット】
〇フォトマスク不要：
設計データを直接基板に露光できるため、フォトマスク製作コストや時間が不要
〇高精度描画：
レーザーや光学半導体素子を用い、微細なパターン形成が可能
〇設計変更に柔軟：
データを書き換えるだけでパターンを変更でき、試作や少量生産に最適
〇短納期対応：
フォトマスク作成工程を省くことで開発スピードを大幅に向上
また、ご要望によりニーズにあった装置構成も対応可能！！！
【デメリット】
〇生産性が低い：
フォトマスク露光に比べて一度に処理できる面積が狭く、生産速度で劣る
（大量生産に不向き）
〇描画方式による制約：
レーザー走査方式では処理速度、形式によっては解像度に限界あり
【主な用途】
・半導体や電子部品の試作・研究開発
・フォトマスク製造の前段階検証
・高付加価値・少量多品種製品の製造
・高周波デバイス
・プリント基板の高精度回路形成
【今後の展望】
・試作から量産までをつなぐ「橋渡し役の技術」として定着
・設計変更の即応性・低コスト性を活かし、新市場で存在感拡大
（設計を変更してもマスクを作り直す事がなく、すぐに新しいパターンを試作できます！）
今回は「マスクレス露光装置」のメリット、デメリット、用途、展望など徹底解剖しました！
難しくて目が回りそうですが、慣れも必要な分野です！！
文系・理系関係なく、露光装置に関する理解が深まるので、
業界研究をしたい方は次回以降も必見です！！
