こんにちは！科犬です。
梅雨真っ只中ですね。。
雨が多く、憂鬱な季節ですが、就職活動頑張っていきましょう！
本日は梅雨を紛らわすような技術的な話を。
前々から紹介はしていますが、半導体と露光装置って切っても切れない関係があるんです。
露光装置は「半導体の心臓部を作る機械」と言っても過言ではありません。
そもそも半導体ってどういう構造かと申しますと、シリコンウェハーの上に回路パターンを何十層も重ねて作られている！
その回路パターンを「焼き付ける」工程が“露光”と呼ばれる工程で、そこで使われるのが紛れもなく露光装置なのです。
イメージとしては、超高精度の「写真の焼き付け」と思っていただいて遜色ありません。
回路の設計図が描かれたフォトマスク（原版）に光を当て、ウェハー上の感光剤（レジスト）に転写します。
カメラのフィルム現像に近い原理ですが、扱うサイズはナノメートル（100万分の1ミリ）からマイクロメートル（1000分の1ミリ）単位です。
半導体の進化は「回路をどれだけ細かく描けるか（微細化）」がカギを握る。
回路線幅が細いほど、同じ面積により多くのトランジスタを詰め込めるため、チップは高性能・低消費電力になります。
そして、どこまで細い線を描けるかは露光装置の性能でほぼ決まります。
日本ではニコンやキヤノンのような大企業から大日本科研のような中小企業が露光装置を手がけており、また露光工程の周辺でも日本企業が強く、フォトレジスト（JSR、東京応化など）、フォトマスク、コータデベロッパ・洗浄（SCREEN、東京エレクトロン）といった関連分野で高シェアを維持しています。
つまり、露光装置は半導体の微細化＝性能向上を直接決めるボトルネック技術であり、そのため地政学や株式市場でも常に注目されているのです。
本日はここまで！
技術的な話も随時展開していますのでぜひ、皆さんの勉強にご利用いただければと思います。
